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超純水設備主要用途：

• 半導體行業(yè)：用于晶元6-12寸切割、清洗、再生、封測用水、半導體設備清洗、電子級無塵布無塵服清洗。
• 太陽能光伏行業(yè)：單晶硅、多晶硅切片清洗、太陽能電池、石英坩堝，多晶硅方舟，光伏玻璃，高純硅粉。
• LCD、 LED、 OLED生產清洗用水、光學攝像頭清洗、光學材料清洗、導電玻璃清洗。
• 半導體集成電路板，線路板生產清洗用超純水。
• 鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）蓄電池、鋅錳電池生產用水。
• 電子級超純化學試劑用純水、納米級電子陶瓷材料純水，尖端磁性材料用純水。
• 有色金屬、貴金屬冶煉用水，航空新材料生產用水，電容器材料腐蝕化成工藝用水，真空鍍膜、高純墨水的等。